等離子濺射和蒸發二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發組件，不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜，也可以用蒸發的方式得到碳或者其他金屬單質的薄膜。儀器元件高度集成化，在同一個腔體內即實現了兩種鍍膜功能；本鍍膜儀采用高純石英腔體作真空腔體，鍍膜過程完全可見。儀器標配雙極旋片真空泵，能夠快速達到1.0E-1Pa的真空度，可滿足大多數蒸發鍍膜實驗和二極濺射實驗所需的真空環境。本儀器體積小，節省空間，能夠置于試驗臺上使用，一機多用，性價比突出，非常適合各大高校及研究機構選用。

小型二合一鍍膜儀適用范圍：

掃描電鏡樣品表面噴金、蒸金噴碳等操作，以及非導體材料試驗電極的制作等。

小型二合一鍍膜儀技術參數：

小型二合一鍍膜儀
樣品臺	尺寸	φ80mm	至蒸發源間距	20mm~50mm可調
直流濺射頭	數量	2”×1
蒸發系統	蒸發源	鎢絲籃	*高溫度	1700℃
	熱電偶	S型熱電偶
真空腔體	腔體尺寸	φ180mm×150mm	觀察窗口	全向透明
	腔體材料	高純石英	開啟方式	頂蓋拆卸式
真空系統	機械泵	旋片泵	抽氣接口	KF16
	真空測量	電阻規	排氣接口	KF16
	極限真空	1.0E-1Pa	供電電源	AC;220V 50/60Hz
	抽氣速率	旋片泵：1.1L/S
濺射電源配置	數量	直流電源×1	*大輸出功率	150w
其他	供電電壓	AC220V,50Hz	整機尺寸	360mm×300mm×470mm
	整機功率	1.5kw	整機重量	20kg

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