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產品詳情
  • 產品名稱:旋轉粉末磁控濺射鍍膜儀

  • 產品型號:CY-MSH150-I-RF-Q
  • 產品廠商:成越科儀
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簡單介紹:
旋轉粉末磁控濺射鍍膜儀是基于磁控濺射技術的**表面處理設備,通過動態旋轉基片或靶材的設計,結合粉末靶材的濺射特性,實現復雜形狀基體表面均勻薄膜的沉積
詳情介紹:

旋轉粉末磁控濺射鍍膜儀是基于磁控濺射技術的**表面處理設備,通過動態旋轉基片或靶材的設計,結合粉末靶材的濺射特性,實現復雜形狀基體表面均勻薄膜的沉積。其核心模塊包括真空系統(機械泵+分子泵)、濺射系統(旋轉靶材、磁場控制裝置)及氣體控制系統(氬氣**流量調節)。該設備特別適用于多材料復合鍍層和粉末材料的薄膜制備,可精準調控薄膜成分與結構。

二、功能特點

?1.多材料兼容性?

支持金屬(銅、鈦)、合金、氧化物、陶瓷等多種粉末靶材的濺射,滿足不同功能薄膜的制備需求。

采用旋轉靶材設計,減少靶材局部損耗,延長使用壽命,同時提升材料利用率(達80%以上)。

?2.高均勻性鍍膜?

通過基片旋轉(轉速可調)與磁場協同控制,確保復雜曲面或異形基片表面膜厚均勻性(誤差≤±5%)。

動態調節氣體壓力(0.1–10 Pa)和濺射功率(100–5000 W),優化薄膜致密度與結合強度。

?3.工藝靈活性?

支持單層/多層復合鍍層制備,可通過程序化控制實現梯度成分或納米疊層結構。

可選配加熱模塊(*高800℃)或冷卻系統,適配高溫合金或熱敏感基材的鍍膜需求。

二、應用領域

?1.半導體與電子器件?

用于沉積導電層(銅、鋁)、絕緣層(SiO?、Al?O?)及阻擋層(TaN),提升芯片封裝可靠性與信號傳輸效率。

?2.光學與能源領域?

制備太陽能電池透明導電膜(ITO)、光學抗反射涂層(MgF?)及紅外窗口功能膜。

在鋰離子電池中沉積固態電解質薄膜,優化電極界面性能。

?3.工業防護與裝飾?

航空發動機葉片表面鍍覆CrN/TiAlN耐磨涂層,延長高溫環境下的使用壽命。

珠寶、手表等**品表面裝飾性鍍膜(金、鈦氮化物),提升美觀度與耐腐蝕性。

?4.生物醫學與科研?

在醫用植入物表面沉積生物相容性涂層(羥基磷灰石、類金剛石碳膜),減少排異反應。

用于納米磁性薄膜、超導材料等前沿領域的實驗室研究.

旋轉粉末磁控濺射鍍膜儀技術參數:

產品名稱

旋轉粉末磁控濺射鍍膜儀

產品型號

CY-MSH150-I-RF-Q

供電電壓

AC220V,50Hz

整機功率

3KW

系統真空

5×10-4Pa

磁控靶槍

靶材尺寸

直徑Φ50.8mm,厚度≦3mm

冷卻模式

循環水冷

水流大小

不小于10L/Min

數量

1

真空腔體

腔體尺寸

直徑φ100Xφ150Xφ100mm

腔體材質

高純石英

旋轉速度

0-20rpm

傾斜角度

0-15°

氣體控制

1路質量流量計用于控制Ar流量,量程為:200SCCM

真空系統

配分子泵系統1套,氣體抽速600L/S

濺射電源

RF電源,功率300W*1

控制系統

CYKY自研專業級控制系統

設備尺寸

1800*630*1100

設備重量

200kg

豫公網安備 41019702002438號

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