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  • XMD2000二氧化硅消光粉高速膠體磨

    二氧化硅消光粉高速膠體磨定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。

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    2025-09-06

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  • XMD2000阿莫西林混懸液超高速膠體磨

    阿莫西林混懸液超高速膠體磨定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。

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  • XMD2000益生菌混懸液高剪切膠體磨

    益生菌混懸液高剪切膠體磨具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。

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  • XMD2000多潘立酬混懸液納米膠體磨

    多潘立酬混懸液納米膠體磨具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。

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  • XMD2000酶改性大豆磷脂超高速膠體磨

    酶改性大豆磷脂超高速膠體磨具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。

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  • XMD2000楓香脂蕓香浸膏膠體磨

    楓香脂蕓香浸膏膠體磨由于轉子高速旋轉所產生的高切線速度和高頻機械效應帶來的強勁動能,使物料在定、轉子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用,形成懸浮液(固/液),乳液(液體/液體)和泡沫(氣體/液體)。

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  • XMD2000納米核酸導向藥物均質膠體磨

    納米核酸導向藥物均質膠體磨轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化分散的效果。

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  • XMD2000負載型催化劑納米膠體磨

    負載型催化劑納米膠體磨轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化分散的效果。

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